金融界2024年9月30日消息，国家知识产权局信息数据显示，沈阳广泰真空科技股份有限公司申请一项名为“脱蜡操控方法及装置、介质、计算机设备、脱蜡控制管理系统”的专利，公开号CN 118705898 A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本申请公开了一种脱蜡操控方法及装置、介质、计算机设备、脱蜡控制管理系统，该方法有：响应于第一控制管理系统的启动指令，将第一控制管理系统和脱蜡机组对应的第二控制管理系统建立通信连接，并在可交互终端上显示初始界面；响应于操作系统图标的触发指令，控制可交互终端展示操作系统界面，操作系统界面包括目标热处理炉对应的控制管理系统展示区域、运行模式控制按钮、工艺模式控制按钮、报警按钮与运行数据展示区域，及脱腊机组对应的控制管理系统展示区域，目标热处理炉的控制管理系统展示区域用于展示目标热处理炉的控制机构组成信息、控制机构运行信息及分压充气阀的控制按钮，脱腊机组的控制管理系统展示区域用于展示脱蜡机组的控制机构组成信息以及控制机构运行信息。
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